電鍍電源概述

適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬；鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。

　　1、降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長速度,促使晶核細化。

　　2、改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。

　　3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態(tài)復雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對于獲得一個給定特性鍍層(如顏色、無孔隙等)的厚度可減少到原來1/3~1/2,節(jié)省原材料。

　　4、降低鍍層的內(nèi)應力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。

　　5、有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。

　　6、改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。

　　7、改進鍍層的機械物理性能,如提高密度降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。

　　傳統(tǒng)的電鍍抑制副作用的產(chǎn)生、改善電流分布、調(diào)節(jié)液相傳質(zhì)過程、控制結(jié)晶取向顯得毫無作用,面對絡合劑和添加劑的研究成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開關(guān)電源解決了傳統(tǒng)整流器存在的缺陷。

　　8、提高產(chǎn)品成品率、產(chǎn)品質(zhì)量。

電鍍電源特點

 1、體積小、重量輕：

　　體積與重量為可控硅電鍍電源的1/5-1/10，便于您規(guī)劃、擴建、移動、維護和安裝。

　　2、節(jié)能效果好：

　　開關(guān)電源由于采用了高頻變壓器，轉(zhuǎn)換效率大大提高，正常情況下較可控硅設備提率10%以上，負載率達70%以下時較可控硅設備提率30%以上。

　　3、輸出穩(wěn)定性高：

　　由于系統(tǒng)反應速度快（微秒級），對于網(wǎng)電及負載變化具有的適應性，輸出精度可優(yōu)于1%。開關(guān)電源的工作效率高、所以控制精度高，有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量。

　　4、輸出波形易于調(diào)制：

　　由于工作頻率高，其輸出波形調(diào)整相對處理成本較低，可以較方便的按照用戶工藝要求改變輸出波形。這樣對于工作現(xiàn)場提高工效，改善加工產(chǎn)品質(zhì)量有較強作用。